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三星、SK 海力士正在研究使用韩国产半导体制造设备、材料以取代进口

  8 月 20 日消息 根据外媒 BusinessKorea 消息,三星电子和 SK 海力士正在研究使用多种韩国产半导体制造相关的材料、设备,以取代进口产品。这是为了减少供应链风险,保证自家半导体工厂的正常生产。

  三星电子正在测试一家韩国厂商的 EUV 光刻胶样品,有消息称三星将在今年下半年开始使用这种光刻胶,用于其 14nm 工艺 DRAM 生产。EUV 光刻胶是半导体芯片生产的核心材料,用于曝光工艺。目前在此类产品全球市场中,日本产品市场份额达到 90% 以上,构成垄断地位。由于日本已经限制向韩国出口 EUV 光刻胶 2 年多,因此三星电子正努力寻找更可靠的本土光刻胶供应商。

三星、SK 海力士正在研究使用韩国产半导体制造设备、材料以取代进口 科学快报 第1张

  SK 海力士方面,目前正在与韩国氢氟酸制造商 RAM Technology 进行合作,以减少对进口产品的依赖。目前,SK 海力士已经在韩国和中国的芯片工厂使用韩国产 HF 氢氟酸。

  据了解,如今中国企业也在努力研发,以求逐步摆脱对于进口芯片制造设备的依赖。据此前消息,南大光电 ArF 光刻胶已经通过专家组验收,可以用于 90nm~14nm 工艺。关于 7nm 工艺用的光刻胶,南大光电表示,目前只是小规模投产,相关生产线正在构建当中,存在较多的不确定性。

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