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台积电证实其正在开发3纳米和4纳米工艺:功耗降低30% 2022年量产

在台积电,举行的第26届技术研讨会上,台积电不仅确认了5纳米和6纳米正在大规模生产,还宣布了更先进的3纳米和4纳米,以及明年5纳米的N5P增强版。

3nm是5nm的自然迭代,理论上4nm是5nm的最终改进。

技术指标,3nm(N3)将在明年晚些时候风险试产,2022年投入大规模量产。相较于5nm,3nm将可以带来25~30%的功耗减少、10~15%的性能提升。

4纳米(N4)也计划在明年晚些时候进行试生产,并在2022年大规模生产。对于台积电,的N5客户来说,向N4的过渡将非常顺利,也就是说,电影制作的成本将大大降低,进度将大大加快。

当然,台积电不是唯一一家3纳米的制造商,但三星更有雄心,希望明年将3纳米推向市场。就核心技术而言,三星的3毫米将改为通用门(Gate-全能),而台积电将坚持使用鳍片式场效应晶体管(FinFET)。

与偷鸡贼相比,三星的核心面积减少了45%,功耗减少了50%,性能提高了35%。

台积电证实其正在开发3纳米和4纳米工艺:功耗降低30% 2022年量产 科学快报 第1张

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